Японская компания Canon еще в прошлом году передала специализированную установку для исследования в Intel, с целью освоения метода нанопечати для производства чипов. Эта технология, по мнению разработчиков, значительно снизит затраты на оборудование при производстве 5-нм чипов и позволит существенно сэкономить электроэнергию. Недавно компания DNP представила новый материал, который можно использовать для создания 1,4-нм чипов. Как сообщает Nikkei Asian Review, DNP разработала уникальные матрицы для создания рисунков на кремниевых пластинах, что позволит превращать кремний в полупроводниковые чипы. Массовый выпуск таких материалов планируется начать в 2027 году. Использование новой технологии позволит сократить энергозатраты на 90% по сравнению с традиционной литографией. Установка для нанопечати стоит около $6,4 млн, что существенно ниже цен на современные сканеры ASML. Интерес к технологии проявляют также Samsung, TSMC, Micron и Kioxia, но их производство настроено на существующую фотолитографию. Canon и Nikon когда-то лидировали в этой области, но сейчас уступили первенство ASML, контролирующей 90% рынка.