В современном мире трудно переоценить значение компании ASML, чьи литографические машины играют ключевую роль в производстве современных чипов. Однако американский стартап Substrate намерен оспорить доминирование голландского гиганта.
Substrate разрабатывает литографическое оборудование, аналогичное установкам ASML EUV, но использующее коротковолновое рентгеновское излучение, создаваемое ускорителем частиц, вместо традиционного экстремального ультрафиолета.
Стартап уже привлек 100 миллионов долларов от таких инвесторов, как Founders Fund, и достиг оценки в 1 миллиард долларов. По утверждениям компании, новая технология позволит снизить затраты на литографию по сравнению с EUV-оборудованием ASML.
Кроме того, Substrate использует рентгеновское излучение с длиной волны короче, чем у EUV (13,5 нм), что обеспечивает более качественную печать. Эксперты отмечают, что новая технология представляет собой значительное достижение в области литографии чипов.